[알파경제=김영택 기자] 미국 정부가 삼성전자의 대규모 반도체 생산시설 건설을 위해 47억4500만 달러(약 6조8778억원)의 보조금을 지급하기로 결정했다.
이는 당초 계획보다 26% 감액된 금액으로, 삼성전자의 투자 포트폴리오 조정에 따른 조치로 보인다.
미국 상무부는 20일(현지시간) 반도체법에 따라 삼성전자에 이 같은 보조금을 지급한다고 발표했다.
상무부는 “이 자금은 삼성이 향후 수년간 370억 달러(약 53조원) 이상을 투자해 텍사스주 중부의 현 반도체 생산 시설을 미국 내 첨단 반도체 개발 및 생산의 종합적 생태계로 만드는 데 사용될 것”이라고 설명했다.
지나 러몬도 미 상무부 장관은 “삼성전자에 대한 이번 투자로 미국은 세계 5대 최첨단 반도체 제조업체가 모두 진출한 유일한 국가가 됐다”며 “이는 AI와 국가 안보에 필수적인 최첨단 반도체의 안정적인 국내 공급을 보장하는 동시에 수만 개의 양질의 일자리를 창출하고 지역사회를 변화시킬 것”이라고 말했다.
상무부는 삼성전자에 대한 깊은 신뢰를 표명하며 “삼성의 투자 규모와 범위는 1996년부터 미국에서 반도체를 제조해 온 기업으로서 미국에 대한 지속적인 헌신을 보여준다”고 평가했다.
전영현 삼성전자 DS부문장 대표이사 부회장은 “미국 정부와 체결한 이번 협정은 우리가 미국 내 최첨단 반도체 생태계를 구축하고 투자하는 과정에서 또 하나의 중요한 이정표가 될 것”이라며 “다가오는 AI 중심 시대의 변화하는 요구를 충족시키기 위해 미국 파트너들과의 협력을 더욱 강화해 나가길 기대한다”고 말했다.
당초 지난 4월 15일 PMT 서명 당시 삼성전자는 현재 미국 텍사스주 테일러시에 오는 2030년까지 총 400억달러(약 58조원) 이상을 투자할 계획이었다.
그러나 투자계획이 수정되면서 금액도 약 7.5% 가량 줄었다. 이에 미국 정부의 보조금 액수도 큰 폭으로 줄었다.
앞서 미국 상무부는 전날 반도체법에 따라 SK하이닉스에 최대 4억5800만달러(약 6600억원)의 직접 보조금과 5억달러(약 7200억원)의 대출을 제공하는 지원을 확정, 발표했다.
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