이재용 삼성전자 회장이 지난주 세계 1위 반도체 노광장비 기업인 ASML을 찾은 후, 대통령 본대 합류로 ASML 방문이 수월했다는 소감을 털어놓은 것으로 알려졌다. 윤석열 대통령의 국빈 방문을 계기로 클린룸까지 함께 들어간 이 회장은 “반도체 산업에 변화를 줄 수 있겠다”고 언급했다. 해외 순방마다 경제인과 동행하는 윤 대통령의 ‘세일즈 외교’가 기업들의 글로벌 경영에 도움을 주고 있다는 방증이기도 하다.
17일 관련업계에 따르면 지난 12일(현지시간) 윤 대통령과 ASML 본사를 찾은 이 회장은 관련 일정을 모두 마친 후 측근들에 “ASML 본사 방문이 10번째인데 대통령 본대에 합류해 가다보니 에스코트를 제대로 받아 본사에 이렇게 정말 빠르게 도착한 것은 이번이 처음”이라고 말했다. 이날 윤 대통령은 이 회장, 최태원 SK그룹 회장과 함께 ASML 본사를 방문해 피터 베닝크 CEO, 증착 장비를 생산하는 ASM의 벤자민 로 CEO, 연구기관 IMEC의 루크 반 덴 호브 CEO 등과 간담회를 갖고 3건의 MOU(업무협약) 서명식에 참석했다.
이번 방문은 윤 대통령으로서도 해외 순방 중 첫 번째 기업 방문이었다. 윤 대통령 역시 “한국 기업들과 긴밀히 협력해 반도체 혁신과 글로벌 공급망 안정화 노력에 기여해주시길 바란다”며 ASML 측에 당부했다. 이날 ASML은 삼성전자와 함께 1조원을 투자해 차세대 EUV 기반으로 초미세 공정을 공동 개발하는 ‘차세대 반도체 제조기술 R&D센터’를 한국에 설립하는 MOU를 체결했다.
특히 이 회장은 “저희도 많은 장비가 있어서 자주 봤었다”면서도 “반도체 산업에 변화를 줄 수 있겠구나”라고 전했다. 이 회장과 함께 귀국한 경계현 삼성전자 디바이스솔루션(DS)부문장(사장)은 이번 MOU에 대해 “동탄에 공동 연구소를 지을 것”이라며 “삼성전자와 ASML 엔지니어들이 공동 연구소에서 하이 NA EUV 장비 기술을 개발할 것”이라고 예고한 바 있다. 삼성이 하이 NA EUV의 기술적 우선권을 확보했다는 얘기로 장기적으로는 D램이나 로직 반도체 공정 등에서 하이 NA EUV를 수월하게 쓸 수 있는 계기가 생긴 셈이다.
이 회장은 ASML 방문 과정에서의 소감도 측근들에 전했다. 그동안 10여차례 ASML을 방문했으나, 대통령 본대에 합류하며 현장 방문이 수월했다는 것으로 “에스코트를 제대로 받아 본사에 이렇게 정말 빠르게 도착한 것은 이번이 처음”이라고 말했다. 이날 클린룸까지 방문한 우리측 인사는 윤 대통령과 이 회장, 최태원 SK그룹 회장, 안덕근 통상교섭본부장 등 4명에 불과했다.
결과적으로는 윤 대통령의 ‘세일즈 외교’가 기업들에 실질적 도움을 주고 있는 것으로도 해석할 수 있다. 매번 순방마다 경제사절단과 동행하는 윤 대통령은 현지에서 정부·기업, 기업·기업 간 계약·MOU 체결 과정을 지원하는 것은 물론 각국 정부 고위 관계자들과 우리 기업 대표들과의 만남도 주선하고 있다. 현지에서 진행하는 오찬, 만찬에서는 자리까지 양보하며 기업 대표들에게 접촉 기회를 부여하는 것으로 알려졌다.
전날 대통령실이 ASML-삼성 간 연구개발 센터 건립을 두고 야당이 기존에 유치된 사업을 포장한 것이라고 발언한 데 대해 “전혀 사실과 다르다”고 즉각 반박하고 나선 것도 같은 맥락이다. 대통령실은 “이번에 성사된 ASML-삼성 간 1조원의 R&D 센터 건립은 기존 투자 프로젝트와 전혀 다른 별개 사안”이라며 민주당 논평에 언급된 투자 프로젝트의 경우 지난해 11월 기공식을 거쳐 현재 건설 중이라고 지적했다. 이번 ASML 한국 연구개발 센터 건설이 화성시·경기도가 2021년 업무협약을 통해 이미 유치한 사업이라고 주장한 민주당의 전날 논평을 정면 반박한 것이다.
배경환 기자 khbae@asiae.co.kr
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